刻蚀机与光刻机的区别
亲，你好，
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刻蚀机与光刻机的区别是：
工艺不同：刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉，而光刻机是将图形刻到硅片上。
难度不同：光刻机的难度和精度大于刻蚀机。
蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。优点是无污染，缺点是蚀刻面不均匀，大面积腐蚀速度慢，不能用于量产。
光刻机（Mask Aligner），又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。【摘要】
刻蚀机与光刻机的区别【提问】
亲，你好，[开心]答：刻蚀机与光刻机的区别如下：工艺不同：刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉，而光刻机是将图形刻到硅片上。难度不同：光刻机的难度和精度大于刻蚀机。蚀刻机可以分为化学蚀刻机和电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中，使用化学溶液通过化学反应以达到蚀刻的目的。优点是无污染，缺点是蚀刻面不均匀，大面积腐蚀速度慢，不能用于量产。光刻机（Mask Aligner），又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。【回答】
刻蚀机和光刻机的区别
蚀刻机和光刻机其实就是完全不同的两种设备，不论从功能还是结构上来说都是天差地别，光刻机是整个芯片制造过程中最为核心的设备，芯片的制程是由光刻机决定的，而不是蚀刻机。具体如下：1、工作原理如果把制造芯片比喻成盖房子，那么光刻机的作用就是把房子的结构标注在地上。刻蚀机就是在光刻完成以后才登场的设备，也是光刻完成以后最为重要的设备之一。刻蚀机最主要的作用就是按照光刻机已经标注好的线去做基础建设，把不需要的地方给清除掉，只留下光刻过程中标注好的线路。光刻机相当于画匠，刻蚀机是雕工。前者投影在硅片上一张精细的电路图(就像照相机让胶卷感光)，后者按这张图去刻线(就像刻印章一样，腐蚀和去除不需要的部分)。2、结构光刻机的最主要的核心技术就是光源和光路，其光源和光路的主要组成部分有四个，光源、曝光、检测、和其他高精密机械组成。对比之下，蚀刻机的结构组成就要简单很多，主要是等离子体射频源、反应腔室和真空气路等组成。3、售价ASML的EUV光刻机单台售价很高，蚀刻机的售价要低很多了。4、工艺刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉,光刻机是将图形刻到硅片上。5、难度光刻机的难度和精度大于刻蚀机。
蚀刻机、光刻机、光栅刻画分别是什么意思？
蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时"复制"到硅片上的过程。光栅刻画:光学中光栅最通常的作用是色散。光栅刻划是制作光栅的方法之一。蚀刻机光刻机
